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Stratus™ P300 Plating / Stratus P300电化学沉积

200-300 mm Wafer Processing / 200-300mm 晶圆处理

 

 
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Configurable for up to 6 metals / 最多可配置六种不同的电镀材料
    UBM/RDL / 凸块下金属层/重布线工艺
    Fan Out / 扇出型封装
    RF Filters / 射频滤波器晶圆级封装
    Power Devices / 功率器件封装


Features 特征
    Dual wafer size capability / 两种晶圆尺寸兼容处理能力
    Membrane Cells provide high chemistry utilization / 离子膜提升化学液的利用率
    ShearPlate™ technology for thinnest boundary layer / 剪切流技术形成最薄边界层
    Substrate handling flexibility / 多种类型基板处理能力


Substrates 基板
    Silicon, eWLB, Glass, Bonded / 硅片, 嵌入式晶圆级球栅阵列,玻璃,键合晶圆等